Session K「イオンビームを利用した革新的材料」
12月24日（金）：154号室& 5Fギャラリー
チェア：岸本直樹（物材機構）、辻 博司（京都大院）、馬場恒明（長崎県工技センター）、
鈴木嘉昭（理研）、福味幸平（産総研）、池山雅美（産総研）、八井 浄（長岡技科大）
＜12月24日（金）＞
■口頭発表 午前の部（154号室 9:00〜12:15）
9:00 [K2-O01]
「イオン注入における電子励起効果を用いたナノ粒子複合材料の制御/ Control of Nanoparticle Composites Using Electronic Excitation Effects under Ion Implantation」○岸本直樹（物材機構ナノマテ研）、増尾和也（筑波大院）、大久保成彰（原研）、武田良彦（物材機構ナノマテ研）
9:15 [K2-O02]
「イオン注入とAr酸化による低価数銅酸化物（Cu2O）ナノ粒子の形成/ Fabrication of Lower-Valence Copper Oxide Nanoparticles (Cu2O) in SiO2 by Ion Implantation and Ar-Gas Oxidation」○雨倉 宏、河野健一郎、O.A. Plaksin、岸本直樹（物材機構ナノマテ研）
9:30 [K2-O03]
「Optical Responses of 60 keV Cu- Ion Implanted Al2O3/ Optical Responses of 60 keV Cu- Ion Implanted Al2O3.」○オレグ・プラクシン、武田良彦、河野健一郎、岸本直樹（物質・材料研究機構）
9:45 [K2-O04]
「負イオン注入により作製した金属ナノ粒子の非線形光吸収係数/ Nonlinear Absorption Coefficients of Metal Nanoparticles Fabricated by Negative Ion Implantation」○武田良彦、オレグ・プラクシン、河野健一郎、呂 静、岸本直樹（物材機構・ナノマテ研）
10:00 [K2-O05]
「負重イオン注入で作製されたCuナノ粒子回折格子/ Cu Nanoparticle Grating Fabricated by Negative Heavy-Ion Implantation」○王 海蒿（物材機構ナノマテ研）、Oleg A. Plaksin （物理エネ研）、呂 静、岸本直樹 （物材機構ナノマテ研）
休憩 10：15〜10：30（ポスター掲示）
10:30 [K2-O06]
「IBS法によるLBMO薄膜堆積の重要な要素:全エネルギーとエネルギーバランス/ Total Energy and Energy Balance in Thin Film Deposition of LBMO by IBS」○中嶋英貴、尾形 道、A.K.Sarkar（三重大院･工）、中西憲一（三重大･工）、遠藤民生（三重大･工、AIST）
10:45 [K2-O07]
「イオンビームスパッタ堆積法によるLSMO薄膜のステップ・テラス構造の制御/ Controls of Step･Terrace Structures of LSMO Thin Films by IBS Deposition」○尾形 道、中嶋英貴、秋葉敦也（三重大・工）、遠藤民生（三重大・工、産総研）
11:00 [K2-O08]
「LAO基板表面に酸素プラズマ照射することによるYBCO薄膜の改善/ Improvements of YBCO Thin Film Crystallinities by Oxygen Plasma Exposure on LAO Substrate」○岡田匡憲、櫻田貴久、アジェイ・クリシュノ・サールカール、丹度久志（三重大・工）、遠藤民生（三重大・工、産総研）
11:15 [K2-O09]
「MgO基板表面への酸素プラズマ照射によるYBCO薄膜堆積への影響/ Effects of Oxygen Plasma Exposure to MgO Substrate Surface on YBCO Thin Film Crystallinities」○櫻田貴久、岡田匡憲、アジェイ・クリシュノ・サールカール、神谷篤志（三重大・工）、遠藤民生（三重大・工、産総研）
11:30 [K2-O10]
「IBS法によるBi2201薄膜成長に及ぼす供給酸素とスパッタ粒子の衝突の役割/ Role of Collisions between Oxygen Species and Sputtered Particles on Bi2201 Film Growth by IBS」〇アジェイ・クリシュノ・サールカール、尾形 道、櫻田貴久、丹度久志（三重大･工）、遠藤民生（三重大･工、産総研）
11:45 [K2-O11]
「大強度パルスイオンアブレーションによる超伝導MgB2薄膜生成/ Superconductivity in MgB2 Films Synthesized by Ablation from High-Power Ion Beam」○札本安識、岸本直樹（物材機構・ナノマテ研）、T.J. レンク、G.A. トレス（サンディア国研）
12:00 [K2-O12]
「反応性イオンビームスパッタを使用した低抵抗率で滑らかな表面をもつITO膜の作製/ Preparation of ITO Films with Smooth Surface and Low Resistivity Using Reactive Ion Beam Sputtering」〇岩坪 聡（富山県工業技術センター）
昼食 12：15〜13：00
■ポスター発表 昼の部（5F ギャラリー 13:00〜14:00）
[K2-P01]
「ヘリウムイオン注入よるTiO2膜上のブリスター形成/ Blister Formation in Rutile TiO2 (100) Thin Films by Helium Ion Implantation」○山本春也（原研・高崎研）、永田晋二（東北大・金研）、武山昭憲（原研・高崎研）、吉川正人（原研・高崎研）
[K2-P02-M]
「MeVエネルギーのSiイオン照射により半導体から放出されたイオンと中性粒子の比較/ A Comparison of Ion with Neutral Emitted from Semiconductors Bombarded by MeV Si Ions」○中田由彦、二宮 啓、青木学聡、土田秀次、松尾二郎、伊藤秋男（京大院・工）
[K2-P03]
「イオン工学のための新しい高電圧発生法/ New Techniques of High Voltage Generation for the Ion Engineering」斎藤和雄、○池山雅美、増田晴穂（産総研）
[K2-P04-M]
「大強度パルスイオンビーム蒸着法における薄膜形成プロセスの解明/ Elucidation of Thin Film Formation Process in Ion-Beam Evaporation」○小方聡子、鈴木常生、湯之上 隆、末松久幸、江 偉華、八井 浄（長岡技大極限センター）湯之上 隆（長岡技大極限センター、同志社大ITEC）
[K2-P05-M]
「イオンビーム蒸着法における巨大ドロップレットの挙動モデル/ Behavior Model of Large Droplets in Ion-Beam Ablation Plasma Produced by Ion-Beam Evaporation」○宍戸博明、柳 英樹、鈴木常生、末松久幸、江 偉華、八井 浄（長岡技大極限センター）、湯之上 隆（長岡技大極限センター、同志社大ITEC）
[K2-P06-M]
「イオンビーム蒸着法によるBa-Sr-Al-O傾斜組成薄膜の作製/ Preparation of Compositionally Gradient Ba-Sr-Al-O Thin Films by Ion-Beam Evaporation」○本多直哉、鈴木常夫、末松久幸、江 偉華、八井 浄（長岡技大・極限センター）、湯之上 隆（長岡技大・極限センター、同志社大・ITEC）
[K2-P07]
「スパッタリングを利用したTi/C組成傾斜皮膜の蒸着によるチタン基合金の表面改質/ Surface Modification of Titanium-based Alloy with Ti/C Compositionally Graded Film Deposited by Sputtering」○園田 勉、渡津 章、加藤清隆、山田敬彦、朝比奈正（産総研）
[K2-P08]
「Arイオン照射Fe/Si多層膜の磁気・構造特性/ Magnetic and Structural Properties of Fe/Si Multilayers Irradiated by Ar Ions」○セティヨ・プルワント、坂本 勲、田上尚男、小池正記（産総研）、本多茂男（島根大）
[K2-P09]
「柱状ZnOの成長に対するCu析出物の触媒効果/ Catalytic Effect of Cu Precipitates for the Growth of ZnO」○武山昭憲、山本春也、伊藤 洋、吉川正人（原研高崎）
[K2-P10]
「プラズマソースイオン注入法による金属基板上での炭化物生成/ Carbide Formation on Metal Substrates by Plasma Source Ion Implantation」○馬場恒明、畑田留理子（長崎工技セ）
[K2-P11]
「プラズマイオン注入（PBII）法を用いた電導性DLC膜の作成/ Electrically Conductive DLC Coatings by Plasma Based Ion Implantation」○宮川草児、中尾節男、池山雅美、チェ ジュンホ、宮川佳子（産総研）
[K2-P12]
「プラズマ利用イオン注入で作成したダイヤモンド状炭素膜の可視及び紫外ラマンスペクトル/ Visible and UV Raman Spectra of Diamond-Like Carbon Films Prepared by PBII System」○中尾節男、チェ ジュンホ、宮川草児、宮川佳子、池山雅美、津川和夫（産総研）
[K2-P13]
「炭素負イオン注入による市販ポリイミドフィルムカプトンの濡れ性変化/ Wettability Change of Commercial Polyimide Film of KAPTON by Carbon Negative-Ion Implantation」○辻 博司、武藤 隆、北村 強、佐藤弘子、後藤康仁、石川順三（京大院・工）
[K2-P14]
「ナノ秒パルス・レーザー法で作製された立方晶アモルファス・カーボン薄膜の電子輸送：電界と温度依存性/ Field and Temperature Dependence of Electrical Transport in Tetrahedral Amorphous Carbon Films Prepared by Nanosecond Pulsed Laser Ablation」○勝野高志（LPICM, Ecole Polytechnique; 産総研）、C. Godet (LPICM, Ecole Polytechnique, France)、J.C. Orlianges, A. Catherinot (SPCTS, Limoges, France)
休憩 14：00〜14：15（ポスター撤去）
■ 口頭発表 午後の部（154号室 14:15〜16:00）
14:15 [K2-O13]
「イオン注入処理されたステンレス鋼の疲労特性に関する研究/ Fatigue Property of Stainless Steel by Ion Implantation」河野貴一郎、○根本雅史、石川晴雄（電通大）、王 清、中野 禅、小木曽久人（産総研）
14:30 [K2- O14]
「PBII法で作製したSi-DLC薄膜の微細構造および機械的特性/ Microstructure and Mechanical Properties of Si-DLC Films Deposited by PBII with Bipolar Pulses」○チェ ジュンホ、宮川草児、中尾節男、池山雅美、宮川佳子（産総研）
14:45 [K2- O15]
「PIII 法によるボトル内面コーティング条件におけるプラズマ及びガス流れ場のPIC-MCCシミュレーション/ PIC-MCC Simulation of Plasma Generation and Neutral Gas Flow Inside of a Bottle under PIII Conditions」○宮川佳子、池山雅美、中尾節男、チェ ジュンホ、宮川草児（産総研）、田中正明（ペガサスソフトウェア(株)）
休憩 15：00〜15：15
15:15 [K2- O16]
「FIB-CVDによる立体ナノマニピュレータの作製/ The 3-D Nano-Manipulator Fabrication by FIB-CVD」○米谷玲皇、神田一浩、春山雄一、松井真二（兵庫県立大学/ CREST JST）、星野隆行（東京大学/ CREST JST）
15:30 [K2- O17]
「細胞外マトリックスとイオンビームを用いた冠状動脈用ステントの表面改質と生体適合性/ Surface Modification and Biocompatibility of Coronary Stent Using the Extracellular Matrix and Ion Beam」○許 健司、鈴木嘉昭、岩木正哉（理研）、杉田洋一（慈恵医大）、井龍志保、小川 明（(株)アクトメント）
15:45 [K2- O18]
「イオンビーム照射によるタンパク質マイクロデバイスの作成/ Ion Beam Modification for Application of Protein Micro-Devices」佐藤一雅、瀬川雄司（ソニー・マテリアル研究所）、山越憲一（金沢大）、○鈴木嘉昭（理研）、世取山 翼（東理大院）