2001年12月以来，Ｘ線・中性子反射率法に関連する研究会がほぼ毎年開催されてお
り，今回の企画は6回目にあたります．第2日目は国際セッションになっており，全
講演・討論が英語で行われます．関心をお持ちの皆様は，ぜひご参加ください．詳
細はホームページ(http://www.nims.go.jp/xray/ref/)をご覧ください。

名称： 埋もれた界面のＸ線・中性子解析に関するワークショップ2006
日時： 2006年7月3日(月)〜4日(火)
場所： マルコーイン・新横浜(http://www.darwin.ne.jp/hotel/yokohama/)
主催： (社)応用物理学会「埋もれた」界面のＸ線・中性子解析グループ
PF懇談会Ｘ線反射率ユーザーグループの主要メンバーを母体とし，より
広範囲の活動をめざし，(社)応用物理学会の新領域グループとして2005
年11月に設立されました
協賛： (社)日本化学会，日本中性子科学会，(社)日本分析化学会，日本放射光
学会
参加費： 無料
申込方法： 「マルコーイン・新横浜」での宿泊を希望される方は5月31日までに下
記連絡先へご一報下さい
連絡先： 物質・材料研究機構材料研究所　高輝度光解析グループ　桜井健次
(Kenji SAKURAI, X-ray Physics Group, National Institute for
Materials Science)
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801
e-mail : sakurai@yuhgiri.nims.go.jp