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埋もれた界面のX線・中性子解析に関するワークショップ2007 |
日時:2007年7月22日(日)〜24日(火)
場所:東北大学金属材料研究所 2号館講堂(〒980-8577
http://www.imr.tohoku.ac.jp/)
主催:(社)応用物理学会「埋もれた」界面のX線・中性子解析グループ
(http://www.nims.go.jp/xray/ref/)
協賛:日本中性子科学会、日本化学会、日本放射光学会、電気学会 他
趣旨:応用物理学会「埋もれた」界面のX線・中性子解析グループは、PF懇談会X線反射率ユーザーグループの主要メンバーを母体とし、よりひらかれた活動をめざして、(社)応用物理学会の新領域グループとして2005年11月に設立されました。X線・中性子反射率法に関連する研究会は、2001年12月以来ほぼ毎年開催されており、今回の企画で9回目になります。
本研究会では、「反射率法」、「埋もれた界面」をキーワードとし、X線(放射光)と中性子の両方の研究コミュニティをカバーする内容となっております。反射率法における理論・ソフトウエアの諸問題についての討論の他、関連の研究を進めていらっしゃる先生方をお招きしての招待講演、一般講演を予定しております。また、幾つかテーマを選んだ企画討論も行う予定でおります。関心をお持ちの皆様の参加をお待ちしております。
尚、本ワークショップのプロシーディングスは英文論文集として刊行を予定しております。
参加費:無料
宿泊:ホテルパールシティ仙台(http://www.hmi-hotel.co.jp/miyagi/sendai/)
に一括して予約をいれています。宿泊を希望される方は5月31日までに下記連絡
先へご一報下さい。
連絡先:物質・材料研究機構 桜井健次
National Institute for Materials Science (NIMS)
Kenji Sakurai
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801
e-mail sakurai@yuhgiri.nims.go.jp