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第26回日本MRS年次大会 プログラムリスト: Oral

C-4 : 先端プラズマ技術が拓くナノマテリアルズフロンティア

Frontier of Nano-Materials Based on Advanced Plasma Technologies

Entry No Keynote/
Invited
Presentation Date Time to
start
Time to
finish
Award Presenter Name Affiliation Paper Title
Dec. 19
13:00 - 18:00
横浜市開港記念会館 Hall / Yokohama Port Opening Plaza Hall
Chair :
金子 俊郎 (東北大学)
Toshiro KANEKO (Tohoku Univ.)
2474   Keynote   C4-K19-001 Dec. 19 13:00 13:30 Robert J. NEMANICH Department of Physics, Arizona State University Thermionic Emission and Thermionic Energy Conversion using Doped Diamond Surfaces
2213     C4-O19-002 Dec. 19 13:30 13:45 伊藤 剛仁
Tsuyohito ITO
大阪大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Osaka University
A computational study of photon-enhanced thermionic energy conversion
2307     C4-O19-003 Dec. 19 13:45 14:00 村田 健二朗
Kenjiro MURATA
静岡大学
Shizuoka University
セシウム蒸気中での熱電子放出における大気圧プラズマジェット処理した酸素終端ダイヤモンド表面の最適化に関する研究
Investigation of Optimum Oxygen-Terminated Diamond Surface Prepared by Atmospheric-Pressure Plasma Jet for Thermionic Emission in Cs Vapor
2192   Keynote   C4-K19-004 Dec. 19 14:00 14:30 Changgu LEE School of Mechanical Engineering, Sungkyunkwan University/SKKU Advanced Institute of Nanotechnology, Sungkyunkwan University Large area synthesis of 2-dimensional materials by chemical vapor deposition methods
2245     C4-O19-005 Dec. 19 14:30 14:45 *D 李 超
Chao LI
東北大学大学院工学研究科
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
WS2アレーの構造制御合成
Structural-Controlled Synthesis of WS2 Array
2374     C4-O19-006 Dec. 19 14:45 15:00 北嶋 武
Takeshi KITAJIMA
防衛大学校
National Defense Academy
プラズマ化学輸送によるh-BN原子層の形成
h-BN atomic layer growth with plasma chemical transport
2197     C4-O19-007 Dec. 19 15:00 15:15 *M 和藤 勇太
Yuta WATO
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
先進プラズマCVDによるグラフェンナノリボンの構造制御合成
Structural-Controlled Growth of Graphene Nanoribbon by Advanced Plasma CVD
   Break Dec. 19 15:15 15:30
Chair :
白藤 立 (大阪市立大学)
Tatsuru SHIRAFUJI (Osaka City Univ.)
2007   Invited   C4-I19-008 Dec. 19 15:30 16:00 山田 英明
Hideaki YAMADA
産総研
AIST
ダイヤモンドウェハ作製技術開発
Research and Development for fabrication of diamond wafers
2748     C4-O19-009 Dec. 19 16:00 16:15 *G リ オイルン ヘレナ
Oi lun LI
芝浦工業大学 理工学研究科 機能制御システム専攻
Control and Functional System Engineering, Shibaura Institute of Technology
液体プラズマを用いた高活性酸素還元活性グラファイト-Nの導入及び電気化学的評価
Towards Efficient Electrocatalysts for Oxygen Reduction by Enriched Graphitic-N Composition in N-doped Carbon via Liquid Plasma Process
2657   Invited   C4-I19-010 Dec. 19 16:15 16:45 井上 泰志
Yasushi INOUE
千葉工業大学工学部
Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology
斜め堆積反応性成膜法により作製した窒化物および酸化物薄膜の吸着誘起型エレクトロクロミズム
Adsorption-induced Electrochromism of Nitride and Oxide Films Prepared by Glancing- angle Reactive Deposition Processes
2674     C4-O19-011 Dec. 19 16:45 17:00 金 載浩
Jaeho KIM
産業技術総合研究所 先進プラズマプロセスグループ
Innovative Plasma Processing Group, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
マイクロ波励起大気圧空気プラズマの放電特性
Discharge properties of a microwave-excited atmospheric-pressure air plasma
2020     C4-O19-012 Dec. 19 17:00 17:15 呉 準席
Jun-seok OH
名城大学/高知工科大学/高知工科大学ナノテクノロジーセンター
Meijo University/Kochi University of Technology/Center for Nanotechnology, Research Institute of KUT
先端表面酸化プロセスを向けた高純度オゾンの開発
Development of High Quality Ozone for Advanced Surface Oxidization Process
2496     C4-O19-013 Dec. 19 17:15 17:30 加古 隆
Takashi KAKO
名古屋大学大学院工学研究科
Graduate school of Engineering, nagoya university
新規手法を用いた非ハロゲンガスプラズマによるGaNの高精度エッチング
A new concept and high performances of GaN etching employing the halogen gas-free plasma chemistry
2543     C4-O19-014 Dec. 19 17:30 17:45 *G 堤 隆嘉
Takayoshi TSUTSUMI
名古屋大学
Nagoya University
原子スケール有機デバイス製造のための基板温度フィードバック制御による先進プラズマプロセス
Advanced Plasma Etching Processing with Feedback Control of Wafer Temperature for Fabrication of Atomic-Scale Organic Devices
2564     C4-O19-015 Dec. 19 17:45 18:00 *B 高原 聖人
Masato TAKAHARA
千葉工業大学工学部
Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology
反応性環境における高指向性坩堝を用いた斜め堆積のシミュレーション
Simulation of Glancing-angle Deposition in Reactive Environments with high Directional Crucibles
Dec. 20
9:30 - 12:00
横浜市開港記念会館 Hall / Yokohama Port Opening Plaza Hall
Chair :
山田 英明 (産業技術総合研究所)
Hideaki YAMADA (AIST)
2449   Invited   C4-I20-001 Dec. 20 09:30 10:00 田中 学
Manabu TANAKA
九州大学大学院工学研究院化学工学部門
:Department of Chemical Engineering, Faculty of Engneering, Kyushu University
多相交流アークを用いた酸化物ナノ粒子生成過程における酸化物蒸気の動的挙動
Dynamic Behavior of Metal Oxide Vapors in Multiphase AC Arc during Oxide Nanoparticles Fabrication Process
2434   Invited   C4-I20-002 Dec. 20 10:00 10:30 神原 淳
Makoto KAMBARA
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
Department of Materials Engineering, The University of Tokyo
PS-PVDによるNi担持Siナノ粒子負極を利用したリチウムイオン電池サイクル特性の向上
Enhanced cycle capacity of lithium ion batteries with Ni-epitaxially-attached Si nanoparticles as anode produced by plasma spray physical vapor deposition
2268     C4-O20-003 Dec. 20 10:30 10:45 *D 佐倉 直喜
Naoki SAKURA
九州大学大学院工学研究院化学工学部門
Department of Chemical Engineering, Faculty of Engneering, Kyushu University
Ar-N2 アークにおける陰極の消耗促進機構
Investigation of Enhanced Cathode Erosion Mechanism in Ar-N2 DC Arc
2284     C4-O20-004 Dec. 20 10:45 11:00 *D Rui HU Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University/Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences Efficient synthesis of amino group-modified graphite encapsulated magnetic nanoparticles by one-step arc discharge approach
2528     C4-O20-005 Dec. 20 11:00 11:15 白藤 立
Tatsuru SHIRAFUJI
大阪市立大学工学部
Faculty of Engineering, Osaka City University
水溶液と接するプラズマによる金ナノ粒子含有ポリマー薄膜の合成
Synthesis of Polymer Thin Films Containing Au Nanoparticles by Plasma in Contact with Aqueous Solution
2104     C4-O20-006 Dec. 20 11:15 11:30 *M 室屋 好希
Yoshiki MUROYA
東京工業大学工学院機械系
Department of Mechanical Engineering, Tokyo Institute of Technology
シリコンナノ粒子/高分子ナノハイブリッド薄膜の熱伝導率
Thermal conductivity of SiNCs/Polymer Nanohybrid Thin films
2333   Invited   C4-I20-007 Dec. 20 11:30 12:00 布村 正太
Shota NUNOMURA
産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター
National institute of advanced industrial science and technology(AIST)
アモルファスシリコン成長時のキャリア輸送とトラッピング -太陽電池の高効率化に向けて-
Carrier transport and trapping during a-Si:H growth – for more efficient solar cells-
Dec. 20
13:30 - 15:30
横浜市開港記念会館 Hall / Yokohama Port Opening Plaza Hall
Chair :
布村 正太 (産業技術総合研究所)
Shota NUNOMURA (AIST)
2577   Keynote   C4-K20-008 Dec. 20 13:30 14:00 板垣 奈穂
Naho ITAGAKI
九州大学
Kyushu University
可視領域でバンドギャップチューニング可能な新半導体材料(ZnO)x(InN)1-xの開発
Sputtering growth of (ZnO)x(InN)1-x semiconductor: a ZnO-based compound with bandgap tunability over the entire visible spectrum
2413   Invited   C4-I20-009 Dec. 20 14:00 14:30 Wan-yu WU Da-Yeh University The Study of Titanium Nitride Films Deposited Using a Dual Deposition System Combining Cathodic Arc and High Power Impulse Magnetron Sputtering
2473     C4-O20-010 Dec. 20 14:30 14:45 *M 井上 健一
Ken-ichi INOUE
東京大学大学院 新領域創成科学研究科
Graduate School of Frontier Science, The University of Tokyo
0.1 - 5.0 MPa での高密度マイクロ波Arプラズマの生成
Generation of high density microwave Ar plasmas at pressures from 0.1 to 5.0 MPa
2060     C4-O20-011 Dec. 20 14:45 15:00 *D 都甲 将
Susumu TOKO
九州大学
Kyushu University
低圧におけるCO2のメタン化の放電電力依存性
Discharge power dependence of methanation of CO2 under low pressure
2103     C4-O20-012 Dec. 20 15:00 15:15 *D 亀島 晟吾
Seigo KAMESHIMA
東京工業大学工学院機械系
Department of Mechanical Engineering, Tokyo Institute of Technology
プラズマハイブリッドCH4/CO2改質における励起H2Oによる反応促進メカニズム
Plasma-activated-H2O induced reaction enhancement mechanism in hybrid dry methane reforming
2027     C4-O20-013 Dec. 20 15:15 15:30 *M 水上 諒
Ryo MIZUKAMI
東京工業大学院理工学研究科
Graduate School of Tokyo Institute of Technology
プラズマCH4/CO2改質におけるNi/Al2O3触媒上の炭素析出挙動
Coke formation behavior over Ni/Al2O3 pellets during nonthermal plasma hybrid CH4/CO2 reforming
Dec. 21
9:30 - 12:00
横浜市開港記念会館 Hall / Yokohama Port Opening Plaza Hall
Chair :
白谷 正治 (九州大学)
Masaharu SHIRATANI (Kyushu Univ.)
2551   Keynote   C4-K21-001 Dec. 21 09:30 10:00 金子 俊郎
Toshiro KANEKO
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
プラズマ遺伝子導入:細胞膜透過性向上に対するプラズマ刺激の効果
Plasma Gene Transfection: Effects of Plasma Stimuli on Cell Membrane Permeabilization
2586   Invited   C4-I21-002 Dec. 21 10:00 10:30 石川 健冶
Kenji ISHIKAWA
名古屋大学
Nagoya University
プラズマ活性培養液(PAM)での脳腫瘍細胞の代謝プロファイル解析
Plasma-activated Medium (PAM) and Metabolic Analysis of Glioblastoma (U251SP)
2187   Invited   C4-I21-003 Dec. 21 10:30 11:00 小野 亮
Ryo ONO
東京大学
The University of Tokyo
プラズマによる癌の免疫治療およびプラズマ医療に効果的な活性種の計測
Immunotherapy of cancer using plasma and measurement of reactive species effective for plasma medicine
2545   Invited   C4-I21-004 Dec. 21 11:00 11:30 中津 可道
Yoshimichi NAKATSU
九州大学大学院医学研究院
Faculty of Medical Sciences, Graduate School, Kyushu University
遺伝子改変マウスを用いた酸化による突然変異・発がん解析
Analyses of Oxidative Mutagenesis and Carcinogenesis Using Genetically Modified Mice: Application to Plasma Medicine
2186   Invited   C4-I21-005 Dec. 21 11:30 12:00 堤 祐介
Yusuke TSUTSUMI
東京医科歯科大学生体材料工学研究所
Institute of Biomaterials and Bioengineering, Tokyo Medical and Dental University
電解プラズマ酸化による医療用金属材料の生体機能化
Biofunctinaolization of metallic biomaterials by plasma electrolytic oxidation technique
Dec. 21
13:30 - 15:30
横浜市開港記念会館 Hall / Yokohama Port Opening Plaza Hall
Chair :
石川 健治 (名古屋大学)
Kenji ISHIKAWA (Nagoya Univ.)
2558     C4-O21-006 Dec. 21 13:30 13:45 *M 田中 彗貴
Suiki TANAKA
名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
電気刺激を用いたカーボンナノウォール足場上での革新的細胞培養法
A Novel Controlling Method of Proliferation of Cultured Cells on Carbon Nanowalls Scaffold with an Electric Stimulation
2198     C4-O21-007 Dec. 21 13:45 14:00 *M 鄭 悦星
Yuexing ZHENG
東北大院工
Department of Electronic Engineering, Tohoku University
プラズマ生成活性種による細胞膜透過性向上の作用発現時間
Onset Time of Cell-membrane Permeabilization by Plasma-Produced Reactive Species
2200     C4-O21-008 Dec. 21 14:00 14:15 白谷 正治
Masaharu SHIRATANI
九州大学
Kyushu University
プラズマとガンマ線の生体照射効果の比較
Comparison of biological effects between plasma and gamma-ray radiation
2273   Invited   C4-I21-009 Dec. 21 14:15 14:45 伴野 元洋
Motohiro BANNO
東京理科大学理学部第一部化学科
Department of Chemistry, Faculty of Science, Tokyo University of Science
水溶液中放電プラズマの時間分解分光計測
Time-resolved Optical Diagnosis of Discharge Plasma Formed in Aqueous Solution
2280   Invited   C4-I21-010 Dec. 21 14:45 15:15 内田 儀一郎
Giichiro UCHIDA
大阪大学接合科学研究所
JWRI, Osaka University
液体表面へのプラズマジェット照射とその溶液中ROS,RNS生成への効果
Effects of plasma-jet irradiation on the surface of liquid and its effects on ROS and RNS generations in bulk solution
2650     C4-O21-011 Dec. 21 15:15 15:30 *M 田中 遼
Ryo TANAKA
東京大学
University of Tokyo
高圧キセノン中の表面誘電体バリア放電における各放電形態の電気的特性と発光特性
Electrical and optical emission characteristics of the different discharge regimes of surface dielectric barrier discharges in high-pressure Xe