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第27回日本MRS年次大会 プログラムリスト: Poster

A:先端プラズマ技術が拓くナノマテリアルズフロンティア

A:Frontier of Nano-Materials Based on Advanced Plasma Technologies

Entry No Presentation Date Award Presenter Name Affiliation Paper Title
Chair :
白谷 正治 (九州大学) Masaharu SHIRATANI (Kyushu University)
Dec. 6
16:00 - 18:00
横浜情報文化センター 情文ホール
Yokohama Media & Communications Center, Hall
Chair :
白谷 正治 (九州大学) Masaharu SHIRATANI (Kyushu University)
2421   A-P6-001 Dec. 6  古閑 一憲
Kazunori KOGA
九州大学
Kyushu University
プラズマ誘起植物成長促進に対する種子密度の効果
Effects of Number Density of Seeds on Plasma Induced Plant Growth Enhancement
2550   A-P6-002 Dec. 6  *M 美濃 祐資
Yusuke MINO
大阪大学接合科学研究所
Joining and Welding Research Institute, Osaka University
プラズマ照射による水溶液中アミノ酸の酸化と分解
Oxidation and decomposition of amino acids in water induced by plasma irradiation
2424   A-P6-003 Dec. 6  笹井 泰志
Yasushi SASAI
岐阜薬科大学
Gifu Pharmaceutical University
メタクリル酸系高分子ブラシにおけるプラズマ誘起表面反応
Plasma-induced Surface Reactions on Methacrylic Polymer Brushes
2348   A-P6-004 Dec. 6  奥村 亮祐
Ryosuke OKUMURA
静岡大学
Shizuoka University
非平衡液中プラズマを利用したTiO2膜の作製
TiO2 film prepared with a non-equilibrium plasma induced in in a liquid phase
2571   A-P6-005 Dec. 6  *M 川合 翔太
Shota KAWAI
名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
液相レーザーアブレーション法を用いた金/酸化チタン複合ナノ粒子の生成
Synthesis of Au/TiO2 composite nanoparticles by pulsed laser ablation in aqueous media
2132   A-P6-006 Dec. 6  *M 山﨑 匠
Takumi YAMAZAKI
東京工業大学機械系
Department of Mechanical Engineering, Tokyo Institute of Technology
非平衡プラズマ・触媒反応によるバイオガスの水素リッチ化
Hydrogen enrichment of biogas by nonthermal plasma-mediated catalysis
2340   A-P6-007 Dec. 6  *M 遠藤 雅
Masashi ENDO
大阪大学接合科学研究所
Joining and Welding Research Institute, Osaka University
プラズマ支援反応性プロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成
Fabrication of High Mobility IGZO Thin Film Transistor at Low Temperature using Plasma-assisted Reactive Processes
2191   A-P6-008 Dec. 6  川崎 仁晴
Hiroharu KAWASAKI
佐世保工業高等専門学校
National Institute of Technology, Sasebo College
プラズマプロセスによるSnドープSiO2薄膜の作製
Sn doped SiO2 Thin Film Preparation by Powder Targets Plasma Processes
2298   A-P6-009 Dec. 6  Chun-chieh LIN National Dong Hwa University Resistive Switching and Transparent Properties in AZO/ZnO/GO/ITO Structural Device
2469   A-P6-010 Dec. 6  *B 山本 雅己
Masami YAMAMOTO
千葉工業大学工学部
Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology
斜め堆積スパッタリング法により作製した離散的ナノ柱状構造化SnO2薄膜のガスセンシング特性
Gas-sensing Properties of SnO2 Films with Isolated Nanocolumnar Structures Deposited by Glancing-angle Sputtering
2473   A-P6-011 Dec. 6  *B 川畑 透眞
Touma KAWABATA
千葉工業大学工学部
Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology
圧力分布環境における斜め堆積反応性蒸着プロセスのモンテカルロシミュレーション
A Simple Monte-Carlo Simulation of Glancing-angle Reactive Evaporation Process in Pressure-distributed Environmnets
2474   A-P6-012 Dec. 6  *B 細谷 昌史
Masashi HOSOYA
千葉工業大学工学部
Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology
離散的ナノ柱状構造化InN薄膜のエレクトロクロミック耐久性に対する熱処理の影響
Effect of Thermal Treatment on Electrochromic Cyclic Durability of InN Films with Isolated Nanocolumnar Structures
2433   A-P6-013 Dec. 6  *M 杉山 雅浩
Masahiro SUGIYAMA
静岡大学
Shizuoka University
マイクロ波励起水素プラズマを用いた水素発生反応のためのMoS2基底面の活性化
Activating basal-plane of MoS2 for hydrogen evolution reaction using MW hydrogen plasma
2487   A-P6-014 Dec. 6  橋本 光平
Kohei HASHIMOTO
東京大学工学系研究科
School of Engineering, The University of Tokyo
プラズマ支援エレクトロスプレーデポジション法の開発
Development of plasma enhanced electrospray deposition
2568   A-P6-015 Dec. 6  大島 多美子
Tamiko OHSHIMA
佐世保工業高等専門学校
National Institute of Technology, Sasebo College
パルスレーザ堆積法による一室型固体酸化物燃料電池の電解質用バリウムセリウム酸化物薄膜の作製
Preparation of Barium Cerium Oxide Thin Films for Electrolyte of The Single Chamber Solid Oxide Fuel Cell by Pulsed Laser Deposition
2561   A-P6-016 Dec. 6  竹中 弘祐
Kosuke TAKENAKA
大阪大学接合科学研究所
Joining and Welding Research Institute, Osaka University
機能性薄膜形成のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの開発
Development of plasma-assisted reactive sputtering processes for functional thin films formation
2426   A-P6-017 Dec. 6  *M 大友 洋
Hiroshi OHTOMO
九州大学
Kyushu University
アルゴンプラズマ中で光捕捉した微粒子の揺動解析
Fluctuation Analysis of An Optical Trapped Fine Particle in Ar Plasma