F:イオンビームを利用した革新的材料創製 F:Innovative Material Technologies Utilizing Ion Beams |
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| Entry No | Presentation | Date | Award | Presenter Name | Affiliation | Paper Title | |||
Nov. 28 10:00 - 11:50 横浜情報文化センター/ Yokohama Media and Communications Center |
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| 2085 | F-P28-001 | Nov. 28 | 石神 龍哉 Ryoya ISHIGAMI |
若狭湾エネルギー研究センター Wakasa Wan Energy Research Center |
窒素イオン注入による鉄白金薄膜永久磁石の保磁力の改善 Improvement in coercivities of Fe-Pt thin film permanent magnets by implantation of nitrogen ions |
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| 2089 | F-P28-002 | Nov. 28 | *M | 下澤 善広 Yoshihiro SHIMOZAWA |
東京大学大学院工学系研究科機械工学専攻 Department of Mechanical Engineering The University of Tokyo |
無電解ガルバニック堆積法を用いた超疎水性表面の開発 Development of superhydrophobic surface using electroless galvanic deposition process |
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| 2092 | F-P28-003 | Nov. 28 | 山本 春也 Shunya YAMAMOTO |
量子科学技術研究開発機構 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology |
イオン穿孔内への貴金属ナノ粒子形成 Formation of Noble Metal Nanoparticles inside Ion-Track-Etched Capillaries |
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| 2126 | F-P28-004 | Nov. 28 | Daryush ILA | DEpartment of Chemistry, Physics, and Materials Sciences, FAY, NC 28301 USA | Optical changes caused by sequential spot-by-spot MeV Ag and Au ion implantation into silica | ||||
| 2240 | F-P28-005 | Nov. 28 | *M | 塘中 宏樹 Hiroki TOMONAKA |
九州大学 Kyushu University |
はじき出し損傷と電子励起損傷の相乗的照射下での蛍石構造酸化物の微細組織変化 Microstructual evolution of fluorite-type oxides under synergistic irradiation of displacement and electronic excitation damage |
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| 2288 | F-P28-006 | Nov. 28 | *M | 岩佐 和時 Kazutoki IWASA |
東京大学大学院工学系研究科 Graduate School of Engineering, The University of Tokyo |
ナノスケールトレンチパターン付き石英へのDLC極薄膜の作成 Deposition of Ultra-Thin DLC Films on Nano-Scale Quartz Trench Pattern |
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| 2352 | F-P28-007 | Nov. 28 | 出崎 亮 Akira IDESAKI |
量子科学技術研究開発機構 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology |
イオン注入法を利用したフェノール樹脂の触媒黒鉛化のための鉄ナノ粒子形成 Formation of Fe Nanoparticles for Catalytic Graphitization of a Phenolic Resin Utilizing Ion Implantation Technique |
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| 2417 | F-P28-008 | Nov. 28 | 堀 史説 Fuminobu HORI |
大阪府立大学大学院工学研究科 Osaka Prefecture University |
重イオン照射によるZrCuAl化合物合金の局所構造変化とアモルファス化 Amorphization and Local Structural Change of ZrCuAl Intermetallic Alloy by Swift High Heavy Ion Irradiation |
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| 2420 | F-P28-009 | Nov. 28 | 田口 富嗣 Tomitsugu TAGUCHI |
量子科学技術研究開発機構 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology |
C-SiC同軸ナノチューブのイオン照射による新奇構造ハイブリッドカーボンナノ材料の創製 Synthesis of new structured hybrid carbon nanomaterials by ion irradiation of C-SiC coaxial nanotubes |
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| 2471 | F-P28-010 | Nov. 28 | 越川 博 Hiroshi KOSHIKAWA |
国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology |
イオン穿孔膜をテンプレートとした白金ナノコーン電極の作製 Preparation of Platinum Nanocones Electrode Using Ion Track-Etched Membranes as Templates |
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| 2542 | F-P28-011 | Nov. 28 | 馬場 恒明 Koumei BABA |
株式会社 山王 SANNO Co., Ltd. |
プラズマソースイオン注入法で作製したアルミニウムおよびニッケル添加DLC膜の電気的特性 Electrical Properties of Al- and Ni-containing DLC Films Prepared by Plasma Source Ion Implantation |
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| 2643 | F-P28-012 | Nov. 28 | 渡津 章 Akira WATADU |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
マグネトロンスパッタリングを用いたマグネシウム合金表面の機械的性質の改善のための緻密な酸化マグネシウム膜の形成 Formation of dense magnesium oxide film for improvement of mechanical property of magnesium alloy surface using magnetron sputtering |
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| 2655 | F-P28-013 | Nov. 28 | 渡津 章 Akira WATADU |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
マグネトロンスパッタリング法により形成されたチタン薄膜の分光反射率分析 Spectroscopic reflectometry analysis of titanium thin film formed by magnetron sputtering method |
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| 2651 | F-P28-014 | Nov. 28 | 園田 勉 Tsutomu SONODA |
産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
アルゴン・メアン混合ガス中スパッタリングで形成したDLC膜の表面特性 Properties of DLC Films Deposited in Argon and Methane Gas Mixture Using Magnetron DC Sputtering Apparatus |
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