Nov. 11 15:30 - 17:30 北九州国際会議場 イベントホール |
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Chair: 鎌滝 晋礼（九州大学） |
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リチウムイオン電池におけるSiナノ粒子負極へのスパッタ薄膜の被覆効果 寺田 圭吾,上田 竜雄,長谷川 祥之,藤掛 大貴,村瀬 瑠汰,山崎 稜介,内田 儀一郎(名城大学 ) Keigo TERADA,Tatsuo UEDA,Yoshiyuki HASEGAWA,Daiki FUJIKAKE,Ryuta MURASE,Ryosuke YAMAZAKI,Giichiro UCHIDA(Meijo University) |
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多元スパッタリング法によるLiAlGePOコーティングを有するSiGe負極リチウムイオン電池の開発 藤掛 大貴,上田 竜雄,寺田 圭吾,長谷川 祥之,村瀬 瑠汰,山崎 稜介,坂口 浩貴,内田 儀一郎(名城大学大学院 理工学研究科) Daiki FUJIKAKE,Tatsuo UEDA,Keigo TERADA,Yoshiyuki HASEGAWA,Ryuta MURASE,Ryosuke YAMAZAKI,Koki SAKAGUCHI,Giichiro UCHIDA(Graduate school of Science and Technology, Meijo University) |
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スパッタリングによるMoSX負極膜の構造制御とLiイオン電池への応用 坂口 浩貴,長谷川 祥之,内田 儀一郎(名城大学理工) Koki SAKAGUCHI,Yoshiyuki HASEGAWA,Giichiro UCHIDA(Faculty of Science and Technology, Meijo University) |
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ポリロタキサン複合材料中におけるプラズマ表面改質六方晶窒化ホウ素の電界を用いた配向制御 長谷川 瑠偉1,2),井上 健一1,2),宗岡 均1),伊藤 剛仁1),桐原 和大2),清水 禎樹2),伯田 幸也2),伊藤 耕三1),寺嶋 和夫1,2)(1)東京大学,2)産業技術総合研究所) Rui HASEGAWA1,2),Kenichi INOUE1,2),Hitoshi MUNEOKA1),Tsuyohito ITO1),Kazuhiro KIRIHARA2),Yoshiki SHIMIZU2),Yukiya HAKUTA2),Kohzo ITO1),Kazuo TERASHIMA1,2)(1)The University of Tokyo,2)National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)) |
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反応性スパッタリング法による高容量リチウムイオン電池用ナノ構造SnO₂薄膜の作製 長谷川 祥之,上田 竜雄,寺田 圭吾,藤掛 大貴,村瀬 瑠汰,山崎 稜介,坂口 浩貴,内田 儀一郎(名城大学) Yoshiyuki HASEGAWA,Tatsuo UEDA,Keigo TERADA,Daiki FUJIKAKE,Ryuta MURASE,Ryosuke YAMAZAKI,Koki SAKAGUCHI,Giichiro UCHIDA(Meijo University) |
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RFスパッタリングを用いたシリコンナノワイヤーの成長における基板温度依存性とリチウムイオン電池負極への応用 山崎 稜介,上田 竜雄,寺田 圭吾,長谷川 祥之,藤掛 大貴,村瀬 瑠汰,内田 儀一郎(名城大学) Ryosuke YAMAZAKI,Tastuo UEDA,Keigo TERADA,Yoshiyuki HASEGAWA,Daiki FUJIKAKE,Ryuta MURASE,Giichiro UCHIDA(Meijo University) |
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RFマグネトロンスパッタLiLaZrO薄膜における結晶相組成とイオン伝導性の制御 村瀬 瑠汰,上田 竜雄,寺田 圭吾,長谷川 祥之,藤掛 大貴,山崎 稜介,坂口 浩貴,内田 儀一郎(名城大学) Ryuta MURASE,Tatsuo UEDA,Keigo TERADA,Yoshiyuki HASEGAWA,Daiki FUJIKAKE,Ryosuke YMAZAKI,Koki SAKAGUCHI,Giichiro UCHIDA(Meijo university) |
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RFマグネトロンスパッタリングを用いたSiナノワイヤーへのLiSiPON膜の導入とリチウムイオン電池負極への応用 上田 竜雄,寺田 圭吾,長谷川 祥之,藤掛 大貴,村瀬 瑠汰,山崎 稜介,坂口 浩貴,内田 儀一郎(名城大学) Tatsuo UEDA,Keigo TERADA,Yoshiyuki HASEGAWA,Daiki FUJIKAKE,Ryuta MURASE,Ryosuke YAMAZAKI,Koki SAKAGUCHI,Giichiro UCHIDA(Meijo University) |
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高周波熱プラズマを用いたFe系合金コア酸化物シェルナノ粒子の合成 江橋 新2),田中 学1),渡辺 隆行1)(1)九州大学工学研究院化学工学部門,2)九州大学工学府化学工学専攻) Arata EBASHI2),Manabu TANAKA1),Takayuki WATANABE1)(1)Department of Chemical Engineering, Faculty of Engineering, Kyushu university ,2)Department of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyushu university ) |
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粉末ターゲットを用いた単一陰極組み合わせスパッタリングによる透明導電性酸化物薄膜の作製 矢崎 楽1),大島 多美子1),竹市 悟志2),日比野 祐介2),猪原 武士2),川崎 仁晴2)(1)長崎大学 大学院 総合生産科学研究科 ,2)佐世保工業高等専門学校) Gaku YAZAKI1),Tamiko OHSHIMA1),Satoshi TAKEICHI2),Yusuke HIBINO2),Takeshi IHARA2),Hiroharu KAWASAKI2)(1)Graduate School of Integrated Science and Technology, Nagasaki University,2)National Institute of Technology, Sasebo College) |
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粉体ターゲットを用いたスパッタ成膜による透明導電膜の作製とその特性II 川崎 仁晴(佐世保工業高等専門学校) Hiroharu KAWASAKI(National Institute of Technology, Sasebo College) |
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CVD法で成長させた単層MoS2による光支援熱電子放出における内部量子効率の向上 松嶋 力哉,荻野 明久(静岡大学大学院総合科学技術研究科) Rikiya MATSUSHIMA,Akihisa OGINO(Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University) |
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CsフリーMgドープInGaNエミッタの光支援熱電子放出特性 鈴木 開晴1),木村 重哉2),宮崎 久生2),荻野 明久1)(1)静岡大学大学院総合科学技術研究科,2)株式会社東芝総合研究所) Kaisei SUZUKI1),Shigeya KIMURA2),Hisao MIYAZAKI2),Akihisa OGINO1)(1)Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University,2)Corporate Laboratory, Toshiba Corporation) |
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窒化物層上に形成されたセシウム蒸着InGaN表面からの熱電子放出の解析 田代 承太郎1),木村 重哉2),宮崎 久生2),荻野 明久1)(1)静岡大学大学院総合科学技術研究科,2)株式会社東芝総合研究所) Jotaro TASHIRO1),Shigeya KIMURA2),Hisao MIYAZAKI2),Akihisa OGINO1)(1)Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University ,2)Corporate Laboratory, Toshiba Corporation) |
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カーボンナノ粒子挿入によるa-C:H膜の界面力学特性の最適化 小野 晋次郎,恵利 眞人,金並 諒平,奥村 賢直,鎌滝 晋礼,古閑 一憲,白谷 正治(九州大学) Shinjiro ONO,Manato ERI,Ryohei KINNAMI,Takamasa OKUMURA,Kunihiro KAMATAKI,Kazunori KOGA,Masaharu SHIRATANI(Kyushu University) |
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プラズマ支援化学気相成長中の表面反応の多重内部反射赤外吸収分光法を用いた解析 桒田 篤哉,大石 侑叶,岩田 晃拓,篠原 正典(福岡大学) Atsuya KUWADA,Yuto OISHI,Akihiro IWATA,Masanori SHINOHARA(Fukuoka University) |
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PECVDにおける原料分子の導入位置からの距離が堆積物の化学結合状態に与える影響 桒田 篤哉,大石 侑叶,岩田 晃拓,篠原 正典(福岡大学) Atsuya KUWADA,Yuto OISHI,Akihiro IWATA,Masanori SHINOHARA(Fukuoka University) |
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マルチホロープラズマCVD法によるカーボンナノ粒子の作製
ーガス比および流量による構造制御の検討ー 山下 瑠翔1),松葉 大晟1),金城 光秀1),中田 大夢2),大島 多美子1),柴田 翔3),鎌滝 晋礼3),白谷 正治3)(1)長崎大学 大学院 総合生産科学研究科,2)長崎大学 工学部,3)九州大学 大学院 システム情報科学府) Ruito YAMASHITA1),Taisei MATSUBA1),Mitsuhide KINJYOU1),Hiromu NAKATA2),Tamiko OHSHIMA1),Sho SHIBATA3),Kunihiro KAMATAKI3),Masaharu SHIRATANI3)(1)Graduate School of Integrated Science and Technology, Nagasaki University,2)Faculty of Engineering, Nagasaki University,3)Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University) |
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プラズマCVDにおける材料依存のa-C:H膜堆積の比較分析 吉田 総一郎,小原 舜平,恵利 眞人,小野 晋次晋,奥村 賢正,鎌滝 晋礼,アタリ パンカジ,古閑 一憲,白谷 正治(九州大学大学院システム情報科学府) Soichiro YOSHIDA,Shunpei OHARA,Manato ERI,Shinjiro ONO,Takamasa OKUMURA,Kunihiro KAMATAKI,Pankaj ATTRI,Kazunori KOGA,Masaharu SHIRATANI(GRADUATE SCHOOL OF INFORMATION SCIENCE AND ELECTRICAL ENGINEERING, KYUSHU UNIVERSITY ) |
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Analysis of reactive species in CxHy+Ar plasma and their effects on a-C:H film deposition Manato ERI,Shinjiro ONO,Takamasa OKUMURA,Kunihiro KAMATAKI,Kazunori KOGA,Masaharu SHIRATANI(Kyushu University) |
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複雑なプラズマプロセスのための解釈可能な機械学習：汎化性、ロバスト性、透明性の架け橋 白谷 正治,FITRIANI Sukma,鎌滝 晋礼(九州大学) Masaharu SHIRATANI,Sukma Wahyu FITRIANI,Kunihiro KAMATAKI(Kyushu University) |