シンポジウム ＆ プログラム

D-1 : イオンビームを利用した革新的材料創製

(本シンポジウムは、公益社団法人応用物理学会九州支部との共催です。)

Organizers:

Representative
･ 雨倉 宏 物質・材料研究機構
Correspondence
･ 西川 宏之 芝浦工業大学 nishi@sic.shibaura-it.ac.jp
Co-Organizers
･ 青木 学聡 京都大学
･ 馬場 恒明 株式会社山王
･ 伊藤 久義 量子科学技術研究開発機構
･ 岸本 直樹 物質・材料研究機構
･ 小林 知洋 理化学研究所
･ 中尾 節男 産業技術総合研究所
･ 安田 和弘 九州大学
･ Chen Feng Shandong University
･ Chu Paul K City University of Hong Kong
･ ILA Daryush FSU
･ Ensinger Wolfgang Technical University Darmstadt
Publication Organizer
･ 雨倉 宏 物質・材料研究機構

Scope:

イオンビームを利用したプロセスは、この半世紀に亘り著しい発展を遂げてきており、この技術は、新材料合成、表面改質、組織・形状制御、表面分析等、材料科学の分野で広く利用されてきた。近年、地球環境問題の観点から、エネルギーの高効率利用、省エネルギープロセス、低環境負荷のシステム等の開発が求められており、これらを支える新規材料の開発への要求が高まっており、これまでに増して、材料科学の分野において、イオンビームを利用した技術の重要性は増してゆくものと期待される。そこで、本セッションでは、イオン工学的手法を用いた、新材料合成、表面改質、組織制御の研究、あるいは新しいイオンビーム利用技術等を対象とし、革新的な材料技術を志向する研究発表を募り、横断的・学際的交流を通じて、ブレークスルーを探索したい。

Topics:

1. イオン-固体相互作用
2. ナノ構造の形成・改質
3. 材料特性の改質・制御
4. クラスターイオン、高速重イオン、高価数イオン, etc
5. プラズマイオン注入、スパッタリング、プラズマ利用材料改質
6. 高分子・生体材料の改質

共催:

公益社団法人 応用物理学会 九州支部

List of Invited Speakers and tentative titles (ABC-order):

  • 1.
    Prof. Feng Chen (Shandong University, China)
    Embedded Metallic Nanoparticles in Dielectric Crystals by Ion Implantation for Generation of Laser Pulses
  • 2.
    Prof. Daryush Ila (Fayetteville State University, USA)
    Fabrication of nano- to micro-optical-structures in silica
  • 3.
    Prof. Manabu Ishimaru (Kyushu Institute of Technology, Japan)
    Transmission electron microscopy study on radiation tolerance of nanostructured and amorphous materials
  • 4.
    Prof. Xin Ou (Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, China)
    Universal“Ion-cut” for nanopatterning, modification and heterointegration of semiconductors
  • 5.
    Dr. Satoshi Yoshioka (Kyushu University, Japan)
    Atomistic structure investigation on ion beam induced defects by X-ray absorption spectroscopy / first-principles spectrum calculation
  • 6.
    Prof. Tsuyoshi Yoshitake (Kyushu University, Japan)
    Applications of ultrananocrystalline diamond films prepared by coaxial arc plasma deposition to hard coating